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硬核干貨 | 別讓“光錐”毀了你的信號:深入解析CHA與F數(shù)對濾光片的影響

更新時間:2026-01-05  |  點擊率:177

導(dǎo)語

在理想的光學(xué)設(shè)計軟件中,光線往往被假設(shè)為沒有缺陷的準(zhǔn)直光(Collimated Light)。但在現(xiàn)實的物理世界里,為了收集更多的光子,我們不得不使用大數(shù)值孔徑(NA)的透鏡,這就導(dǎo)致光線以錐形匯聚或發(fā)散。

你是否遇到過這種情況:明明在0° AOI下測試優(yōu)秀的窄帶濾光片,一旦裝入儀器,透過率就莫名下降,中心波長發(fā)生偏移?

這可能不是濾光片的問題,而是你忽略了一個關(guān)鍵參數(shù)——半錐角(Cone Half Angle, CHA)。今天,Alluxa技術(shù)團隊帶你深入探討CHA與F數(shù)如何“悄悄"改變?yōu)V光片的光譜特性,以及如何應(yīng)對這一挑戰(zhàn)。


一、什么是半錐角 (CHA)?

簡單來說,半錐角 (CHA) 描述了入射光束的匯聚或發(fā)散程度。

它的定義是:入射光束的主光軸(AOI)與邊緣光線之間的夾角。

CHA = 0°:意味著光是準(zhǔn)直的。

CHA 越大:意味著光束的匯聚或發(fā)散程度越劇烈。

在光學(xué)系統(tǒng)描述中,我們常用 數(shù)值孔徑 (NA)F數(shù) (F#) 來表示光錐的大小。它們之間可以通過阿貝正弦條件相互轉(zhuǎn)換:

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其中:θ為半錐角,n為介質(zhì)折射率(空氣中n≈1。

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圖 1a-1c:非準(zhǔn)直光及光束半錐角示意圖 ——(a) 0° 入射角的光學(xué)濾光片、(b) 45° 入射角的二向色濾光片、(c) 45° 入射角的高反射率反射鏡


二、CHA 如何“扭曲"你的光譜?

許多工程師知道,當(dāng)入射角(AOI)增加時,干涉濾光片的光譜會發(fā)生藍(lán)移(向短波方向移動)。

那么,CHA 的影響和單純的 AOI 傾斜有什么不同?

如果說 AOI 傾斜是讓光譜“整體搬家",那么 CHA 就是讓光譜“被壓扁和拉伸"。

由于光錐中包含了從 0° 到MAX角度θ的所有光線,濾光片的最終光譜表現(xiàn)實際上是所有這些角度下光譜的積分(平均)效果。這就導(dǎo)致了兩個顯著現(xiàn)象:

1. 藍(lán)移(Blue Shift): 同樣會發(fā)生中心波長向短波移動,但由于是平均效應(yīng),其移動幅度通常比單純傾斜到MAX角度θ時要小。

2. 波形畸變(Averaging Effect): 這是最致命的。由于不同角度的光譜疊加,濾光片的邊緣會變得不再陡峭,矩形的通帶會變成“圓頂"甚至“錐形"。

【重點強調(diào)】這種效應(yīng)在窄帶(Narrowband)和超窄帶濾光片上尤為明顯!即使是相對較小的 CHA,也可能導(dǎo)致峰值透過率(Tmax)顯著下降,帶寬展寬,信噪比惡化。

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圖 2:光束半錐角差異對光學(xué)濾光片透射光譜的影響特性曲線圖 ——0° 入射角、平均偏振態(tài)下窄帶濾光片的理論性能數(shù)據(jù)


三、設(shè)計避坑指南:AOI 范圍 ≠ CHA

在撰寫技術(shù)指標(biāo)(Spec)時,一個常見的誤區(qū)是將光錐簡單地描述為“AOI Range"(例如 AOI: 0°±5°)。

雖然在幾何上看似相似,但“光線在 0° 到 5° 之間隨機入射"“一個 F# 對應(yīng)的 5° 半錐角光束"在物理上是不同的。

AOI 范圍通常暗示光線可能是該范圍內(nèi)的任意單一角度。

CHA 則明確表示光束同時包含該范圍內(nèi)的所有角度分量。

專家建議:為了獲得較優(yōu)的系統(tǒng)性能,請務(wù)必在指標(biāo)中明確區(qū)分 AOI 和 CHA/F#。這能讓薄膜設(shè)計工程師利用優(yōu)化算法,針對特定的光錐分布進行補償設(shè)計,從而較大程度地恢復(fù)矩形波形和高透過率。


四、測量的難題與解決方案

設(shè)計出來了,怎么驗證?這又是另一個難題。

絕大多數(shù)商用分光光度計的固有 CHA 大約在 2° 到 4° 之間,且無法隨意調(diào)節(jié)以模擬客戶實際系統(tǒng)中的 F#。這意味著,你很難直接測量出濾光片在特定大光錐下的真實表現(xiàn)。

Alluxa 是如何解決這個問題的?

1. HELIX 光譜分析系統(tǒng): 我們自主研發(fā)的 HELIX 系統(tǒng)采用準(zhǔn)直光路,消除了儀器自身 CHA 的干擾,能夠測得濾光片本質(zhì)的“本征光譜"。

2. 理論模擬與反演: 基于精準(zhǔn)的準(zhǔn)直光測試數(shù)據(jù),結(jié)合強大的薄膜理論模型,我們可以通過算法精確模擬出濾光片在任意 CHA 或 F# 下的光譜表現(xiàn)。

這種“精準(zhǔn)測量 + 理論模擬"的組合,確保了交付給客戶的產(chǎn)品在實際復(fù)雜光路中也能表現(xiàn)如一。


總結(jié)

在追求高通量、緊湊型光學(xué)系統(tǒng)的今天,大數(shù)值孔徑(High NA)的應(yīng)用越來越廣泛。不要讓 CHA 成為你系統(tǒng)中的“隱形殺手"。

理解 CHA 與 F# 的換算關(guān)系。

警惕窄帶濾光片在非準(zhǔn)直光下的波形畸變。

在定義指標(biāo)時,準(zhǔn)確區(qū)分 AOI 與 CHA。

Alluxa 憑借專屬的 SIRRUS™ 等離子體沉積工藝和前沿化的自動化控制算法,不僅能制造出高性能的超窄帶濾光片,更能通過專業(yè)的模擬設(shè)計,為您的大角度光錐系統(tǒng)提供量身定制的解決方案。

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